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阿尔卡特干泵ADP/ADS系列
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摘要:阿尔卡特干泵ADP/ADS系列

阿尔卡特干泵ADP/ADS系列

     ADP/ADS系列2产品的四种型号可满足不同真空要求,环境清洁的工艺应用可选择LM型,轻型或中型应用要求可选择P型,H型可供苛刻要求的工艺环境选择。许多来自半导体工业的主要制造商已经选择这一产品,这一选择使他们大大缩短了计划外停工期,从而节约了运行成本,提高了利润率。

特点:

处理能力可靠性高

  • 宽交叉槽可容纳大量粉尘和颗粒
  • 精确而闭合的温控系统、高操作温度以及从进口到出口的气体温度的线性增长
  • 各级采取立式抽吸防止吹扫腔中粉尘聚集 

主要应用于半导体制造

  • 小巧:ADP/ADS系列2只有约390mm
  • 洁净:阿尔卡特真空泵无摩擦无须油润滑,也就无粉尘污染的风险。
  • 安静:阿尔卡特真空泵所有型号均含一台静音装置,无须再安装外部消声装置。
  • 兼容半导体S2 

价廉物美

  • 工作压强以及极限压强下低能耗
  • ADP/ADS系列2运行温低,用水量非常小。
  • 用户可轻松设定氮净化水平,应用于清洁环境无须净化。 

典型应用工艺:

  • ADP 122 LM, ADS 602 LM 
    真空进片室,传送室,物理气相沉淀,镀膜
  • ADP 122 P, ADS 602 P, ADS 1202 P, ADS 1802 P
    灰化,玻璃拆封,电介质,线蚀刻,注入源,介质化学气相沉淀
  • ADS 602 H, ADS 1202 H, ADS 1802 H
    等离子增强化学气相淀积,低压化学气相沉淀
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