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阿尔卡特干泵ADP/ADS系列的典型应用工艺
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阿尔卡特干泵ADP/ADS系列

     ADP/ADS系列2产品的四种型号可满足不同真空要求,环境清洁的工艺应用可选择LM型,轻型或中型应用要求可选择P型,H型可供苛刻要求的工艺环境选择。许多来自半导体工业的主要制造商已经选择这一产品,这一选择使他们大大缩短了计划外停工期,从而节约了运行成本,提高了利润率。

典型应用工艺:

  • ADP 122 LM, ADS 602 LM 
    真空进片室,传送室,物理气相沉淀,镀膜
  • ADP 122 P, ADS 602 P, ADS 1202 P, ADS 1802 P
    灰化,玻璃拆封,电介质,线蚀刻,注入源,介质化学气相沉淀
  • ADS 602 H, ADS 1202 H, ADS 1802 H
    等离子增强化学气相淀积,低压化学气相沉淀
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